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国家标准计划《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第2部分:高温栅偏》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口,TC78SC1(全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会)执行 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 忱芯科技(上海)有限公司工业和信息化部电子第五研究所复旦大学杭州芯迈半导体技术有限公司浙江大学广电计量检测集团股份有限公司深圳市禾望电气股份有限公司中国第一汽车集团有限公司清纯半导体(宁波)有限公司东风汽车集团有限公司怀柔实验室湖北九峰山实验室深圳平湖实验室安徽长飞先进半导体股份有限公司浙江大学绍兴研究院西安交通大学中国电力科学研究院有限公司江苏第三代半导体研究院有限公司上海维安电子股份有限公司上海瞻芯电子科技股份有限公司深圳市大能创智半导体有限公司东莞南方半导体科技有限公司厦门华联半导体科技有限公司广东省东莞市质量监督检测中心北京第三代半导体产业技术创新战略联盟

目录

项目进度

当前标准计划

20260733-T-339 正在起草

碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第2部分:高温栅偏

基础信息

计划号
20260733-T-339
制修订
制定
项目周期
6个月
标准类别
方法
国际标准分类号
31.080.30
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.30 三极管
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

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