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国家标准计划《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第3部分:动态栅偏》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口,TC78SC1(全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会)执行 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

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目录

项目进度

当前标准计划

20260732-T-339 正在起草

碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第3部分:动态栅偏

基础信息

计划号
20260732-T-339
制修订
制定
项目周期
6个月
标准类别
方法
国际标准分类号
31.080.30
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.30 三极管
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

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