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国家标准计划《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第3部分:动态栅偏》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口,TC78SC1(全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会)执行 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

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目录

项目进度

当前标准计划

20260732-T-339 正在征求意见

碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第3部分:动态栅偏

征求意见稿

基础信息

计划号
20260732-T-339
制修订
制定
项目周期
6个月
标准类别
方法
国际标准分类号
31.080.30
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.30 三极管
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

起草人

孙博韬
雷光寅
王民
刘盼
汤益丹
乔良
毛赛君
李汝冠
郭雯
刘惠鹏
王来利
张晓松
孙钦华
宋鑫宇
樊嘉杰
李世丹
徐瑞鹏
陈媛
袁俊
魏家行
谢峰
徐新兵
张海涛
朱涛
陆月明
冯海科
王群
胡惠娜

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