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国家标准计划《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第7部分:动态高温高湿反偏(DH3TRB)》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口,TC78SC1(全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会)执行 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 工业和信息化部电子第五研究所忱芯科技(上海)有限公司北京第三代半导体产业技术创新战略联盟安徽长飞先进半导体股份有限公司清纯半导体(宁波)有限公司东南大学广电计量检测集团股份有限公司广东芯聚能半导体有限公司比亚迪半导体股份有限公司江苏宏微科技股份有限公司深圳平湖实验室泰科天润半导体科技(北京)有限公司东莞南方半导体科技有限公司复旦大学宁波研究院合肥功立德半导体科技有限公司中国科学院电工研究所深圳市禾望电气股份有限公司一汽旗新动力(长春)科技有限公司中国电力科学研究院有限公司湖北九峰山实验室西安交通大学复旦大学

主要起草人 陈媛何亮施宜军陈兴欢毛赛君高伟陆月明孙博韬魏家行陈义强来萍路国光李汝冠张晓松王群曾威胡惠娜乔良左元慧孙钦华张瑾谢峰袁俊刘志强吴海平杨霏王来利刘盼

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项目进度

当前标准计划

20260730-T-339 正在征求意见

碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第7部分:动态高温高湿反偏(DH3TRB)

征求意见稿

基础信息

计划号
20260730-T-339
制修订
制定
项目周期
6个月
标准类别
方法
国际标准分类号
31.080.30
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.30 三极管
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

起草人

陈媛
何亮
毛赛君
高伟
魏家行
陈义强
李汝冠
张晓松
胡惠娜
乔良
张瑾
谢峰
吴海平
杨霏
施宜军
陈兴欢
陆月明
孙博韬
来萍
路国光
王群
曾威
左元慧
孙钦华
袁俊
刘志强
王来利
刘盼

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