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国家标准计划《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第7部分:动态高温高湿反偏(DH3TRB)》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口,TC78SC1(全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会)执行 ,主管部门为工业和信息化部(电子)。 拟实施日期:发布后6个月正式实施。

主要起草单位 工业和信息化部电子第五研究所 、忱芯科技(上海)有限公司 、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟 、安徽长飞先进半导体股份有限公司 、清纯半导体(宁波)有限公司 、东南大学 、广电计量检测集团股份有限公司 、广东芯聚能半导体有限公司 、比亚迪半导体股份有限公司 、江苏宏微科技股份有限公司 、深圳平湖实验室 、泰科天润半导体科技(北京)有限公司 、东莞南方半导体科技有限公司 、复旦大学宁波研究院 、合肥功立德半导体科技有限公司 、中国科学院电工研究所 、深圳市禾望电气股份有限公司 、一汽旗新动力(长春)科技有限公司 、中国电力科学研究院有限公司 、湖北九峰山实验室 、西安交通大学 、复旦大学 。

主要起草人 陈媛 、何亮 、施宜军 、陈兴欢 、毛赛君 、高伟 、陆月明 、孙博韬 、魏家行 、陈义强 、来萍 、路国光 、李汝冠 、张晓松 、王群 、曾威 、胡惠娜 、乔良 、左元慧 、孙钦华 、张瑾 、谢峰 、袁俊 、刘志强 、吴海平 、杨霏 、王来利 、刘盼 。

目录

项目进度

当前标准计划

20260730-T-339 正在批准

碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第7部分:动态高温高湿反偏(DH3TRB)

基础信息

计划号
20260730-T-339
制修订
制定
项目周期
6个月
下达日期
2026-01-28
标准类别
方法
中国标准分类号
L40
国际标准分类号
31.080.01
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.01 半导体分立器件综合
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

起草人

陈媛
何亮
毛赛君
高伟
魏家行
陈义强
李汝冠
张晓松
胡惠娜
乔良
张瑾
谢峰
吴海平
杨霏
施宜军
陈兴欢
陆月明
孙博韬
来萍
路国光
王群
曾威
左元慧
孙钦华
袁俊
刘志强
王来利
刘盼

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