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国家标准计划《半导体器件 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)可靠性试验方法 第2部分:体二极管工作引起的双极退化的试验方法》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 工业和信息化部电子第五研究所电子科技大学湖南大学

目录

项目进度

当前标准计划

20242719-T-339 正在起草

半导体器件 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)可靠性试验方法 第2部分:体二极管工作引起的双极退化的试验方法

基础信息

计划号
20242719-T-339
制修订
制定
项目周期
16个月
下达日期
2024-08-23
标准类别
方法
国际标准分类号
31.080.30
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.30 三极管
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC 63275-2:2022。

采标中文名称:半导体器件 碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管可靠性试验方法 第2部分:体二极管工作引起的双极退化的试验方法。

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