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国家标准计划《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)测试方法 第2部分:栅极电荷》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口,TC78SC1(全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会)执行 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 东南大学北京第三代半导体产业技术创新战略联盟工业和信息化部电子第五研究所忱芯科技(上海)有限公司重庆大学中国电子科技集团公司第五十五研究所清纯半导体(宁波)有限公司浙江大学绍兴研究院广电计量检测集团股份有限公司是德科技(中国)有限公司浙江大学深圳平湖实验室中国电力科学研究院有限公司北京华峰测控技术股份有限公司扬州扬杰电子科技股份有限公司无锡华润华晶微电子有限公司江苏宏微科技股份有限公司安徽长飞先进半导体股份有限公司西安交通大学常州同惠电子股份有限公司苏州汇川联合动力系统股份有限公司复旦大学宁波研究院一汽旗新动力(长春)科技有限公司湖北九峰山实验室合肥功立德半导体科技有限公司北京怀柔实验室华北电力大学

主要起草人 魏家行曹钧厚孙伟锋林氦陈媛毛赛君孙鹏张国斌孙博韬高伟李汝冠孙承志王珩宇王晓萍张雷刘惠鹏裘俊庆张新王天赐肖磊王来利陈绪聪张太之李世丹刘志强袁俊孙钦华和峰蔡雨萌

目录

项目进度

当前标准计划

20260728-T-339 正在征求意见

碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)测试方法 第2部分:栅极电荷

征求意见稿

基础信息

计划号
20260728-T-339
制修订
制定
项目周期
6个月
标准类别
方法
国际标准分类号
31.080.30
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.30 三极管
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

起草人

魏家行
曹钧厚
陈媛
毛赛君
孙博韬
高伟
王珩宇
王晓萍
裘俊庆
张新
王来利
陈绪聪
刘志强
袁俊
蔡雨萌
孙伟锋
林氦
孙鹏
张国斌
李汝冠
孙承志
张雷
刘惠鹏
王天赐
肖磊
张太之
李世丹
孙钦华
和峰

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