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国家标准计划《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)测试方法 第2部分:栅极电荷》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口,TC78SC1(全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会)执行 ,主管部门为工业和信息化部(电子)。 拟实施日期:发布后6个月正式实施。

主要起草单位 东南大学 、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟 、工业和信息化部电子第五研究所 、忱芯科技(上海)有限公司 、重庆大学 、中国电子科技集团公司第五十五研究所 、清纯半导体(宁波)有限公司 、浙江大学绍兴研究院 、广电计量检测集团股份有限公司 、是德科技(中国)有限公司 、浙江大学 、深圳平湖实验室 、中国电力科学研究院有限公司 、北京华峰测控技术股份有限公司 、扬州扬杰电子科技股份有限公司 、无锡华润华晶微电子有限公司 、江苏宏微科技股份有限公司 、安徽长飞先进半导体股份有限公司 、西安交通大学 、常州同惠电子股份有限公司 、苏州汇川联合动力系统股份有限公司 、复旦大学宁波研究院 、一汽旗新动力(长春)科技有限公司 、湖北九峰山实验室 、合肥功立德半导体科技有限公司 、北京怀柔实验室 、华北电力大学 。

主要起草人 魏家行 、曹钧厚 、孙伟锋 、林氦 、陈媛 、毛赛君 、孙鹏 、张国斌 、孙博韬 、高伟 、李汝冠 、孙承志 、王珩宇 、王晓萍 、张雷 、刘惠鹏 、裘俊庆 、张新 、王天赐 、肖磊 、王来利 、陈绪聪 、张太之 、李世丹 、刘志强 、袁俊 、孙钦华 、和峰 、蔡雨萌 。

目录

项目进度

当前标准计划

20260728-T-339 正在批准

碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)测试方法 第2部分:栅极电荷

基础信息

计划号
20260728-T-339
制修订
制定
项目周期
6个月
下达日期
2026-01-28
标准类别
方法
中国标准分类号
L40
国际标准分类号
31.080.01
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.01 半导体分立器件综合
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会半导体分立器件分会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

起草人

魏家行
曹钧厚
陈媛
毛赛君
孙博韬
高伟
王珩宇
王晓萍
裘俊庆
张新
王来利
陈绪聪
刘志强
袁俊
蔡雨萌
孙伟锋
林氦
孙鹏
张国斌
李汝冠
孙承志
张雷
刘惠鹏
王天赐
肖磊
张太之
李世丹
孙钦华
和峰

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