国家标准计划《半导体器件 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)可靠性试验方法 第1部分:偏置温度不稳定性试验方法》由 TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)。
主要起草单位 工业和信息化部电子第五研究所 、浙江大学 、中国电子科技集团公司电子第五十五研究所 、重庆大学 。
20242747-T-339 正在起草
31 电子学 |
31.080 半导体分立器件 |
31.080.30 三极管 |
本标准等同采用IEC国际标准:IEC 63275-1:2022。
采标中文名称:半导体器件 碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管可靠性试验方法 第1部分:偏置温度不稳定性试验。