国家标准《硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 洛阳中硅高科技有限公司 、江苏鑫华半导体科技股份有限公司 、四川永祥新能源有限公司 、江苏中能硅业科技发展有限公司 、亚洲硅业（青海）股份有限公司 、青海南玻新能源科技有限公司 、青海丽豪清能股份有限公司 、新疆新特新能材料检测中心有限公司 、湖北江瀚新材料股份有限公司 。

主要起草人 万烨 、郭树虎 、刘见华 、曹俊英 、赵培芝 、吴作木 、宋丹 、王春明 、魏东亮 、李强 、冉祎 、康俊勤 、甘俊 、汤艳 。