国家标准《硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 南京中锗科技股份有限公司 、南京大学现代分析中心 、南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心 。

主要起草人 郑华荣 、刘新军 、龚磊荣 、张莉萍 、黄和明 、陈逸君等 。