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国家标准计划《碳化硅晶片表面杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 广东天域半导体股份有限公司北京第三代半导体产业技术创新战略联盟南京国盛电子有限公司北京大学东莞光电研究院山西烁科晶体有限公司

目录

项目进度

当前标准计划

20250729-T-469 正在起草

碳化硅晶片表面杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

基础信息

计划号
20250729-T-469
制修订
制定
项目周期
18个月
下达日期
2025-03-27
标准类别
方法
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

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