国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 有研新材料股份有限公司 、万向硅峰电子股份有限公司 、浙江省硅材料质量检验中心 。

主要起草人 孙燕 、李俊峰 、楼春兰 、潘紫龙 、朱兴萍 。