国家标准《硅片表面光泽度的测试方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 浙江金瑞泓科技股份有限公司 、浙江海纳半导体股份有限公司 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、天津中环领先材料技术有限公司 、山东有研半导体材料有限公司 、上海合晶硅材料股份有限公司 、麦斯克电子材料股份有限公司 、广东金湾高景太阳能科技有限公司 、浙江旭盛电子有限公司 、巢湖学院 、金瑞泓科技（衢州）有限公司 。

主要起草人 梁兴勃 、李琴 、张海英 、林松青 、潘金平 、李素青 、张雪囡 、由佰玲 、边永智 、庄智慧 、沈辉辉 、焦二强 、韩云霄 、徐志群 、付明全 、詹玉峰 、王可胜 。