国家标准《碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 、山东天岳先进科技股份有限公司 、常州臻晶半导体有限公司 、湖州东尼半导体科技有限公司 、厦门坤锦电子科技有限公司 、中国电子科技集团公司第十三研究所 、广东天域半导体股份有限公司 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、中国科学院半导体研究所 、ＴＣＬ环鑫半导体（天津）有限公司 、浙江东尼电子股份有限公司 。

主要起草人 姚康 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、马春喜 、高飞 、张红岩 、陆敏 、郑红军 、房玉龙 、芦伟立 、丁雄杰 、刘薇 、李嘉炜 、晏阳 、钮应喜 、杨玉聪 、黄树福 。