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国家标准计划《酸浸取 电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 新光硅业科技责任有限公司

主要起草人 王波过惠芬吴道荣梁洪敖细平

目录

项目进度

当前标准计划

20073569-T-469 已发布

酸浸取 电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质

基础信息

计划号
20073569-T-469
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2008-01-18
标准类别
方法
中国标准分类号
H80
国际标准分类号
29.045
29 电气工程
29.045 半导体材料
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

王波
过惠芬
敖细平
吴道荣
梁洪

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