国家标准《酸浸取 原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 信息产业部专用材料质量监督检验中心 、中国电子科技集团公司第四十六研究所 。
主要起草人 褚连青 、王奕 、魏利洁 。
GB/T 24579-2009 现行
本标准修改采用其他国际标准:SEMI MF1724-1104。
采标中文名称:采用酸萃取 原子吸收光谱法测量多晶硅表面金属沾污。