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国家标准《化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。

主要起草单位中国科学院半导体研究所。

主要起草人陈涌海、赵有文、提刘旺、王元立。

目录

标准状态

当前标准

GB/T 26070-2010 现行

化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法

基础信息

标准号: GB/T 26070-2010
发布日期: 2011-01-10
实施日期: 2011-10-01

标准类别

方法

中国标准分类号

H17

国际标准分类号

77.040.99

77 冶金

77.040 金属材料试验

77.040.99 金属材料的其他试验方法

归口单位

全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位

全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门

国家标准委

起草单位

中国科学院半导体研究所

起草人

陈涌海

赵有文

提刘旺

王元立

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