注册

掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
国家标准 推荐性 现行

国家标准《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 中国科学院微电子中心 。

目录

标准状态

  1. 发布
  2. 实施
  3. 废止
当前标准

GB/T 17866-1999 现行

掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

基础信息

标准号
GB/T 17866-1999
发布日期
1999-09-13
实施日期
2000-06-01
标准类别
方法
中国标准分类号
L56
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门
国家标准委

采标情况

本标准等同采用其他国际标准：SEMI P23:1993。

采标中文名称:。

起草单位

中国科学院微电子中心

相近标准(计划)

GB/T 16880-1997  光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则
GB/T 16879-1997  掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
20231600-T-469  消费品缺陷工程分析 危险温度点测量方法
SJ/T 31080-2016  光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法
20213424-T-469  汽车产品召回 信息缺陷评估指南
GB/T 15871-1995  硬面光掩模基板
20231604-T-469  消费品缺陷线索采集与评估规范
SJ/T 11863-2022  单片超大尺寸掩模板装载盒规范
SJ/T 10274-1991  掩模对准曝光机测试方法
GB/T 16524-1996  光掩模对准标记规范
  • 版权所有 侵权必究
  • 主管：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
  • 主办：国家市场监督管理总局国家标准技术审评中心
  • 技术支持：北京中标赛宇科技有限公司
  • 支持电话：010-82261036
  • 备案号：京ICP备18022388号-1
全文
意见建议