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掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
国家标准 推荐性 现行

国家标准《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 中国科学院微电子中心 。

目录

标准状态

  1. 发布
  2. 实施
  3. 废止
当前标准

GB/T 17866-1999 现行

掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

基础信息

标准号
GB/T 17866-1999
发布日期
1999-09-13
实施日期
2000-06-01
标准类别
方法
中国标准分类号
L56
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门
国家标准化管理委员会

采标情况

本标准等同采用其他国际标准：SEMI P23:1993。

采标中文名称:。

起草单位

中国科学院微电子中心

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