国家标准计划《集成电路用光掩模保护膜》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。
主要起草单位 上海高光微半导体科技有限公司 、上海集成电路材料研究院有限公司 、中国电子技术标准化研究院 。
20263940-T-469 正在起草
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