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国家标准计划《碳化硅单晶片微管密度测试方法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所北京天科合达半导体股份有限公司安徽长飞先进半导体有限公司广东天域半导体股份有限公司山东天岳先进科技股份有限公司

目录

项目进度

修订了以下标准

GB/T 30868-2014 (全部代替)

碳化硅单晶片微管密度的测定 化学腐蚀法

GB/T 31351-2014 (全部代替)

碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法
当前标准计划

20231108-T-469 正在征求意见

碳化硅单晶片微管密度测试方法

征求意见稿

基础信息

计划号
20231108-T-469
制修订
修订
项目周期
16个月
下达日期
2023-12-01
标准类别
方法
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

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