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国家标准计划《硅抛光片表面颗粒测试方法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 拟实施日期:发布后6个月正式实施。

主要起草单位 有研半导体材料有限公司上海合晶硅材料有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司南京国盛电子有限公司有色金属技术经济研究院天津市环欧半导体材料技术有限公司

主要起草人 孙燕刘卓冯泉林徐新华张海英骆红刘义杨素心张雪囡

目录

项目进度

修订了以下标准

GB/T 19921-2005 (全部代替)

硅抛光片表面颗粒测试方法
当前标准计划

20151791-T-469 已发布

硅抛光片表面颗粒测试方法
已发布标准

基础信息

计划号
20151791-T-469
制修订
修订
项目周期
24个月
下达日期
2015-08-18
标准类别
方法
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

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