国家标准《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。
主要起草单位 峨嵋半导体材料厂 。
主要起草人 何兰英 、王炎 、张辉坚 、刘阳 。
GB/T 4058-1995 （全部代替）
GB/T 4058-2009 现行
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