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国家标准计划《硅片翘曲度和弯曲度的测试 自动非接触扫描法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 拟实施日期:发布后6个月正式实施。

主要起草单位 有研半导体硅材料股份公司山东有研半导体材料有限公司合肥中南光电有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司洛阳鸿泰半导体有限公司浙江海纳半导体有限公司上海合晶硅材料股份有限公司开化县检验检测研究院天津中环领先材料技术有限公司义乌力迈新材料有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司

主要起草人 孙燕蔡丽艳贺东江李素青王可胜徐新华张海英王振国潘金平曹雁楼春兰张雪囡皮坤林

目录

项目进度

修订了以下标准

GB/T 32280-2015 (全部代替)

硅片翘曲度测试 自动非接触扫描法
当前标准计划

20194173-T-469 已发布

硅片翘曲度和弯曲度的测试 自动非接触扫描法
已发布标准

基础信息

计划号
20194173-T-469
制修订
修订
项目周期
18个月
下达日期
2020-01-13
标准类别
方法
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

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