国家标准《半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 万向硅峰电子股份有限公司 。

主要起草人 楼春兰 、朱兴萍 、方强 、汪新平 、戴文仙 。

本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF673-1105。

采标中文名称:用非接触涡流法测定半导体硅片电阻率和薄膜薄层电阻的方法。