国家标准《硅片径向电阻率变化测量方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）、全国有色金属标准化技术委员会联合归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 麦斯克电子材料股份有限公司 、洛阳鸿泰半导体有限公司 、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 、山东有研艾斯半导体材料有限公司 、中环领先半导体科技股份有限公司 、浙江中晶科技股份有限公司 、浙江海纳半导体股份有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、上海新昇半导体科技有限公司 、上海合晶硅材料股份有限公司 、广东先导微电子科技有限公司 。

主要起草人 方丽霞 、郭可 、马武祥 、邢胜昌 、张志林 、寇文杰 、王江华 、朱晓彤 、邓春星 、黄笑容 、潘金平 、李慎重 、冯天 、尚海波 、马金峰 。