国家标准《半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 北京天科合达半导体股份有限公司 、中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟 、安徽长飞先进半导体有限公司 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、中国电子科技集团公司第四十六研究所 。
主要起草人 彭同华 、佘宗静 、王大军 、张贺 、李素青 、王波 、杨建 、袁松 、刘立娜 。
GB/T 42271-2022 现行
77 冶金 |
77.040 金属材料试验 |