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国家标准《重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准化管理委员会

主要起草单位 信息产业部专用材料质量监督检验中心中国电子科技集团公司第四十六研究所

主要起草人 马农农何友琴丁丽

目录

标准状态

当前标准

GB/T 24580-2009 现行

重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

基础信息

标准号
GB/T 24580-2009
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
标准类别
方法
中国标准分类号
H80
国际标准分类号
29.045
29 电气工程
29.045 半导体材料
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门
国家标准化管理委员会

采标情况

本标准修改采用其他国际标准:SEMI MF 1528-1104。

采标中文名称:用二次离子质谱法测量重搀杂N型硅衬底中的硼污染的方法。

起草单位

起草人

马农农
何友琴
丁丽

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