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国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所有色金属技术经济研究院有限责任公司山东天岳先进科技股份有限公司

主要起草人 马农农何友琴陈潇刘立娜何烜坤李素青张红岩

目录

标准状态

当前标准

GB/T 41153-2021 现行

碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

基础信息

标准号
GB/T 41153-2021
发布日期
2021-12-31
实施日期
2022-07-01
标准类别
方法
中国标准分类号
H17
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

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