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国家标准《半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的偏置温度不稳定性试验》 由TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 工业和信息化部电子第五研究所河北北芯半导体科技有限公司上海交通大学中科院微电子所厦门芯阳科技股份有限公司深圳市威兆半导体股份有限公司浙江朗德电子科技有限公司中国电子科技集团公司第十三研究所

主要起草人 恩云飞高汭章晓文来萍柴智林晓玲陈义强周圣泽高金环任鹏鹏都安彦李伟聪陈磊冉红雷

目录

标准状态

当前标准

GB/T 45716-2025 现行

半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的偏置温度不稳定性试验

基础信息

标准号
GB/T 45716-2025
发布日期
2025-05-30
实施日期
2025-09-01
标准类别
方法
中国标准分类号
L40
国际标准分类号
31.080.01
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.01 半导体分立器件综合
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC 62373:2006。

采标中文名称:金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳态试验。

起草单位

起草人

恩云飞
高汭
柴智
林晓玲
高金环
任鹏鹏
陈磊
冉红雷
章晓文
来萍
陈义强
周圣泽
都安彦
李伟聪

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