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国家标准《半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的偏置温度不稳定性试验》 由TC78(全国半导体器件标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)。

主要起草单位 工业和信息化部电子第五研究所 、河北北芯半导体科技有限公司 、上海交通大学 、中科院微电子所 、厦门芯阳科技股份有限公司 、深圳市威兆半导体股份有限公司 、浙江朗德电子科技有限公司 、中国电子科技集团公司第十三研究所 。

主要起草人 恩云飞 、高汭 、章晓文 、来萍 、柴智 、林晓玲 、陈义强 、周圣泽 、高金环 、任鹏鹏 、都安彦 、李伟聪 、陈磊 、冉红雷 。

目录

标准状态

当前标准

GB/T 45716-2025 现行

半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的偏置温度不稳定性试验

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基础信息

标准号
GB/T 45716-2025
发布日期
2025-05-30
实施日期
2025-09-01
标准计划
20210839-T-339
标准类别
方法
中国标准分类号
L40
国际标准分类号
31.080.01
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.01 半导体分立器件综合
归口单位
全国半导体器件标准化技术委员会
执行单位
全国半导体器件标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC 62373:2006。

采标中文名称:金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳态试验。

起草单位

起草人

恩云飞
高汭
柴智
林晓玲
高金环
任鹏鹏
陈磊
冉红雷
章晓文
来萍
陈义强
周圣泽
都安彦
李伟聪

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