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国家标准计划《半导体制造用气体处理指南》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC1(全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 拟实施日期:发布后3个月正式实施。

主要起草单位 中昊光明化工研究设计院有限公司 、西南化工研究设计院有限公司 、高麦仪器公司 、广东华特气体股份有限公司 、东莞市联臣电子科技有限公司 、上海华爱色谱分析技术有限公司 、上海市计量测试技术研究院 。

主要起草人 孙福楠 、牛艳东 、廖恒易 、杜汉盛 、王鸿 、方华 、陈鹰 、周鹏云 。

目录

项目进度

当前标准计划

20132255-T-469 已发布

半导体制造用气体处理指南
已发布标准

基础信息

计划号
20132255-T-469
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2014-01-26
标准类别
基础
中国标准分类号
G86
国际标准分类号
71.040.40
71 化工技术
71.040 分析化学
71.040.40 化学分析
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

孙福楠
牛艳东
王鸿
方华
廖恒易
杜汉盛
陈鹰
周鹏云

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