行业标准 - 全国标准信息公共服务平台

行业标准《半导体设备集成电路制造用离子注入机测试方法》，主管部门为工业和信息化部。

目录

标准状态

基础信息

标准号: SJ/T 12024-2025
发布日期: 2025-09-09
实施日期: 2026-03-01

中国标准分类号

L 95

国际标准分类号

31-550

31 电子学

31.550 电子产品生产设备

主管部门

工业和信息化部

行业分类

无

备案信息

备案号：105962-2026。

相近标准(计划)

SJ/T 12023-2025 半导体设备集成电路制造用化学气相淀积设备(CVD)测试方法

YS/T 1371-2020 离子注入机用钨材

SJ/T 11762-2020 半导体设备制造信息标识要求

20250939-T-339 集成电路时钟电路测试方法

SJ/T 11761-2020 200mm及以下晶圆用半导体设备装载端口规范

EJ/T 647-1994 金属用工业离子注入机

20260279-T-604 低压熔断器第4部分：半导体设备保护用熔断体的补充要求

20250087-T-469 集成电路用高纯硅靶材

20242395-T-339 集成电路电子设计自动化工具测试方法

版权所有侵权必究
主管：国家市场监督管理总局国家标准化管理委员会
主办：国家市场监督管理总局国家标准技术审评中心
技术支持：北京中标赛宇科技有限公司
支持电话：010-82261054
备案号：京ICP备18022388号-1