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国家标准计划《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 拟实施日期:发布后6个月正式实施。

主要起草单位 山东有研半导体材料有限公司浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司金瑞泓微电子(嘉兴)有限公司中环领先半导体材料有限公司广东天域半导体股份有限公司鸿星科技(集团)股份有限公司

主要起草人 王玥朱晓彤孙燕宁永铎徐新华徐国科李春阳张海英陈海婷丁雄杰郭正江

目录

项目进度

当前标准计划

20214647-T-469 已发布

半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)

基础信息

计划号
20214647-T-469
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2021-12-31
标准类别
方法
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

王玥
朱晓彤
徐新华
徐国科
陈海婷
丁雄杰
孙燕
宁永铎
李春阳
张海英
郭正江

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