国家标准计划《半导体晶片近边缘几何形态评价 第3部分：扇形区域平整度法(ESFQR、ESFQD、ESBIR）》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 山东有研半导体材料有限公司 、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司 、金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司 、中环领先半导体材料有限公司 。