国家标准计划《半导体晶片近边缘几何形态评价 第4部分：不完整区域局部平整度法（PSFQR、PSFQD、PSBIR）》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 山东有研艾斯半导体材料有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 、西安奕斯伟材料科技股份有限公司 、中环领先半导体科技股份有限公司 、上海新昇半导体科技有限公司 。