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国家标准计划《碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准化管理委员会。 拟实施日期:发布后6个月正式实施。

主要起草单位 安徽长飞先进半导体有限公司广东天域半导体股份有限公司安徽芯乐半导体有限公司南京国盛电子有限公司浙江芯科半导体有限公司河北普兴电子科技股份有限公司中国科学院半导体研究所

主要起草人 钮应喜袁松张会娟刘敏仇光寅李京波彭铁坤袁肇耿杨龙闫果果

目录

项目进度

当前标准计划

20203728-T-469 已发布

碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法

基础信息

计划号
20203728-T-469
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2020-11-19
标准类别
方法
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准化管理委员会

起草单位

起草人

钮应喜
袁松
仇光寅
李京波
杨龙
闫果果
张会娟
刘敏
彭铁坤
袁肇耿

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