国家标准《硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法》 由TC608（全国表面化学分析标准化技术委员会）归口 ，主管部门为中国科学院。

主要起草单位 中国科学院化学研究所 、中国计量科学研究院 。

主要起草人 刘芬 、王海 、赵良仲 、宋小平 、赵志娟 、邱丽美 。