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国家标准计划《表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅层厚度的测量》由 TC608(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国科学院。 拟实施日期:发布后3个月正式实施。

主要起草单位 季华实验室中国科学院化学研究所中国计量科学研究院中石化石油化工科学研究院有限公司

主要起草人 赵志娟王海范燕邱丽美谭军宋小平刘芬刘芬

目录

项目进度

修订了以下标准

GB/T 25188-2010 (全部代替)

硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
当前标准计划

20253804-T-491 正在征求意见

表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅层厚度的测量

征求意见稿

基础信息

计划号
20253804-T-491
制修订
修订
项目周期
12个月
下达日期
2025-08-06
标准类别
方法
中国标准分类号
04
国际标准分类号
71.040.40
71 化工技术
71.040 分析化学
71.040.40 化学分析
归口单位
全国表面化学分析标准化技术委员会
执行单位
全国表面化学分析标准化技术委员会
主管部门
中国科学院

起草单位

起草人

采标情况

本标准等同采用ISO国际标准:ISO 14701:2018。

采标中文名称:表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅层厚度的测量。

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