国家标准《硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 峨嵋半导体材料厂 。

主要起草人 杨旭 、江莉 。

本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF 1188-1105。

采标中文名称:用红外吸收法测量硅中间隙氧原子含量的标准方法。