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国家标准《硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准化管理委员会

主要起草单位 峨嵋半导体材料厂

主要起草人 杨旭江莉

目录

标准状态

代替了以下标准

GB/T 14144-1993 (全部代替)

硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法
当前标准

GB/T 14144-2009 现行

硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法

基础信息

标准号
GB/T 14144-2009
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
全部代替标准
GB/T 14144-1993
标准类别
方法
中国标准分类号
H80
国际标准分类号
29.045
29 电气工程
29.045 半导体材料
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门
国家标准化管理委员会

采标情况

本标准修改采用其他国际标准:SEMI MF 1188-1105。

采标中文名称:用红外吸收法测量硅中间隙氧原子含量的标准方法。

起草单位

起草人

杨旭
江莉

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