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国家标准《硅外延层晶体完整性检查方法腐蚀法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位峨眉半导体材料研究所。

目录

标准状态

当前标准

GB/T 14142-1993 废止

硅外延层晶体完整性检查方法腐蚀法

被以下标准替代

GB/T 14142-2017 （全部代替）

硅外延层晶体完整性检验方法腐蚀法

基础信息

标准号: GB/T 14142-1993
发布日期: 1993-02-06
实施日期: 1993-10-01
废止日期: 2018-04-01

标准类别: 方法
中国标准分类号: H26
归口单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门: 国家标准化管理委员会

采标情况

本标准非等效采用ITU国际标准：ASTM F80:1985。

采标中文名称:。

起草单位

峨眉半导体材料研究所

相近标准(计划)

GB/T 14142-2017 硅外延层晶体完整性检验方法腐蚀法

YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法

YS/T 23-1992 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法

YS/T 14-2015 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法

YS/T 14-1991 导质外延层和硅夕晶层厚度测量方法

YS/T 15-2015 硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法

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