国家标准《硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 南京国盛电子有研公司 、有研半导体材料有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 。
主要起草人 马林宝 、骆红 、杨帆 、刘小青 、陈赫 、张海英 。
GB/T 14142-1993 (全部代替)
GB/T 14142-2017 现行