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国家标准《硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 南京国盛电子有研公司有研半导体材料有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司

主要起草人 马林宝骆红杨帆刘小青陈赫张海英

目录

标准状态

代替了以下标准

GB/T 14142-1993 (全部代替)

硅外延层晶体完整性检查方法 腐蚀法
当前标准

GB/T 14142-2017 现行

硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法

基础信息

标准号
GB/T 14142-2017
发布日期
2017-09-29
实施日期
2018-04-01
全部代替标准
GB/T 14142-1993
标准类别
方法
中国标准分类号
H25
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

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