国家标准《硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 南京国盛电子有研公司 、有研半导体材料有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 。

主要起草人 马林宝 、骆红 、杨帆 、刘小青 、陈赫 、张海英 。