国家标准《半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第1部分:缺陷分类》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 河北半导体研究所(中国电子科技集团公司第十三研究所) 、山东天岳先进科技股份有限公司 、之江实验室 、浙江大学 、中国电子科技集团公司第四十六研究所 、中国科学院半导体研究所 、中电化合物半导体有限公司 、广东天域半导体股份有限公司 、TCL环鑫半导体(天津)有限公司 、山西烁科晶体有限公司 、河北普兴电子科技股份有限公司 、深圳创智芯联科技股份有限公司 、深圳市晶扬电子有限公司 、广州弘高科技股份有限公司 、常州臻晶半导体有限公司 、深圳超盈智能科技有限公司 、深圳市星汉激光科技股份有限公司 、中微半导体(上海)有限公司 。
主要起草人 房玉龙 、芦伟立 、李佳 、张冉冉 、张红岩 、王健 、李丽霞 、殷源 、李振廷 、张建锋 、徐晨 、杨青 、刘立娜 、钮应喜 、金向军 、丁雄杰 、刘薇 、杨玉聪 、魏汝省 、吴会旺 、姚玉 、高东兴 、王辉 、陆敏 、夏俊杰 、周少丰 、郭世平 。
GB/T 43493.1-2023 现行
31 电子学 |
31.080 半导体分立器件 |
31.080.99 其他半导体分立器件 |
本标准等同采用IEC国际标准:IEC 63068-1:2019。
采标中文名称:半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第1部分:缺陷分类。