国家标准计划《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。 拟实施日期:发布后6个月正式实施。
主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、山东天岳先进科技股份有限公司 。
主要起草人 马农农 、何友琴 、陈潇 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、张红岩 。
20202826-T-469 已发布
77 冶金 |
77.040 金属材料试验 |