国家标准计划《酸浸取 原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 信息产业部专用材料质量监督检验中心 、中国电子科技集团公司第四十六研究所 。

主要起草人 褚连青 、王奕 、魏利洁 。

本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF1724-1104。

采标中文名称:采用酸萃取 原子吸收光谱法测量多晶硅表面金属沾污。