国家标准《硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 洛阳单晶硅有限责任公司 。
GB/T 19444-2004 现行
20231107-T-469 正在征求意见