国家标准《半导体单晶材料透过率测试方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、江苏第三代半导体研究院有限公司 、松山湖材料实验室 、新美光（苏州）半导体科技有限公司 、有研国晶辉新材料有限公司 、安徽光智科技有限公司 、天通银厦新材料有限公司 、广东先导微电子科技有限公司 、中电晶华（天津）半导体材料有限公司 、中国电子科技集团公司第十三研究所 、南京盛鑫半导体材料有限公司 、山东有研半导体材料有限公司 、山东天岳先进科技股份有限公司 、广东天域半导体股份有限公司 、北京天科合达半导体股份有限公司 、云南驰宏国际锗业有限公司 、杭州镓仁半导体有限公司 、浙江海纳半导体股份有限公司 、甬江实验室微谱（浙江）技术服务有限公司 、昆山海菲曼科技集团股份有限公司 、河南中宜创芯发展有限公司 。

主要起草人 李静 、何烜坤 、李素青 、许蓉 、齐海涛 、索开南 、胡伟 、王英明 、齐兴旺 、欧琳芳 、郝文娟 、孙雪峰 、李明达 、王阳 、王银海 、夏秋良 、朱晓彤 、张红岩 、丁雄杰 、佘宗静 、匡子登 、夏宁 、沈益军 、吴杰 、边仿 、孙毅 、李欢欢 。