国家标准《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 峨嵋半导体材料厂 。
GB 4058-1983 （全部代替）
GB 6622-1986 （全部代替）
GB 6623-1986 （全部代替）
GB/T 4058-1995 废止
GB/T 4058-2009 （全部代替）
| 77 冶金 |
| 77.040 金属材料试验 |
| 77.040.30 金属材料化学分析 |
本标准等效采用ITU国际标准：ASTM F47:1988。
采标中文名称:。
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