国家标准《重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 宁波立立电子股份有限公司 、信息产业部专用材料质量监督检验中心 。

主要起草人 李慎重 、何良恩 、许峰 、刘培东 、何秀坤 。