国家标准《热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 信息产业部专用材料质量监督检验中心 、中国电子科技集团公司第四十六研究所 。

主要起草人 王奕 、褚连青 、李静 。

本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF1982-1103。

采标中文名称:热解吸附气相色谱法评估硅片表面有机污染物的方法。