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国家标准《半导体器件 微电子机械器件 第8部分:带状薄膜拉伸特性测量的弯曲试验方法》 由TC599(全国集成电路标准化技术委员会)、全国微机电技术标准化技术委员会联合归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 浙江大立科技股份有限公司中国电子技术标准化研究院国科大杭州高等研究院中国科学院上海微系统与信息技术研究所中国科学院微电子研究所工业和信息化部电子第五研究所浙江拓感科技有限公司复旦大学义乌研究院中国计量大学杭州大立微电子有限公司

主要起草人 钱良山刘若冰姜利军范延军刘翔李春来焦斌斌肖克来提朱晓荣潘峰池积光刘海涛马志刚钱剑陈勇国刘世界唐国良张传杰康永印陈亮李方浩罗雯雯

目录

标准状态

当前标准

GB/T 42709.8-2026 即将实施

半导体器件 微电子机械器件 第8部分:带状薄膜拉伸特性测量的弯曲试验方法

基础信息

标准号
GB/T 42709.8-2026
发布日期
2026-07-30
实施日期
2027-02-01
标准计划
20231787-T-339
标准类别
方法
中国标准分类号
L55
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国集成电路标准化技术委员会全国微机电技术标准化技术委员会
副归口单位
全国微机电技术标准化技术委员会
执行单位
全国集成电路标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC 62047-8:2011。

采标中文名称:半导体器件 微电子机械器件 第8部分:带状薄膜拉伸特性测量的弯曲试验方法。

起草单位

起草人

钱良山
刘若冰
刘翔
李春来
朱晓荣
潘峰
马志刚
钱剑
唐国良
张传杰
李方浩
罗雯雯
姜利军
范延军
焦斌斌
肖克来提
池积光
刘海涛
陈勇国
刘世界
康永印
陈亮

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