国家标准计划《低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 四川新光硅业科技有限责任公司 。
主要起草人 梁洪 、过惠芬 、吴道荣 。
20073568-T-469 已发布
GB/T 24581-2009
本标准等同采用其他国际标准:SEMI MF 1630-0704。
采标中文名称:低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法。