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国家标准计划《集成电路 电磁发射测量 第3部分:辐射发射测量 表面扫描法》由 TC599(全国集成电路标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)。 拟实施日期:发布即实施。

主要起草单位 中国电子技术标准化研究院北京智芯微电子科技有限公司海研芯(青岛)微电子有限公司扬芯科技(深圳)有限公司厦门海诺达科学仪器有限公司中国合格评定国家认可中心天津先进技术研究院工业和信息化部电子第五研究所浙江大学南京容向测试设备有限公司北京航空航天大学北京国家新能源汽车技术创新中心有限公司中山大学深圳市中兴微电子技术有限公司河南省电子信息产品质量检验技术研究院江苏省质量和标准化研究院中国信息通信研究院南京师范大学中家院(北京)检测认证有限公司深圳硅山技术有限公司

主要起草人 崔强龙跃付君阎照文褚瑞方文啸吴建飞杨红波王新才朱赛张学磊陈梅双刘佳梁吉明邵伟恒魏兴昌沈学其雷黎丽龙发明谢利涛杨博王紫任颜伟王芳韦寿德

目录

项目进度

当前标准计划

20214069-T-339 正在批准

集成电路 电磁发射测量 第3部分:辐射发射测量 表面扫描法

基础信息

计划号
20214069-T-339
制修订
制定
项目周期
18个月
下达日期
2021-10-13
标准类别
方法
中国标准分类号
L56
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国集成电路标准化技术委员会
执行单位
全国集成电路标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

起草人

崔强
龙跃
褚瑞
方文啸
王新才
朱赛
刘佳
梁吉明
沈学其
雷黎丽
杨博
王紫任
韦寿德
付君
阎照文
吴建飞
杨红波
张学磊
陈梅双
邵伟恒
魏兴昌
龙发明
谢利涛
颜伟
王芳

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC TS 61967-3:2014。

采标中文名称:集成电路 电磁发射测量 第3部分:辐射发射测量 表面扫描法。

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