国家标准《硅片参考面结晶学取向X射线测试方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 有研半导体材料股份有限公司 。

主要起草人 孙燕 、卢立延 、杜娟 、翟富义 、高玉锈 。

本标准修改采用其他国际标准：SEMI MF847-0705。

采标中文名称:硅片参考面晶向X射线测试方法。